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等離子去膠機(jī)是一種利用低溫等離子體技術(shù)去除半導(dǎo)體、微電子、光電等領(lǐng)域中光刻膠殘留的設(shè)備，其原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用，能夠高效、環(huán)保地去除有機(jī)污染物，廣泛應(yīng)用于芯片制造、封裝測(cè)試等工藝環(huán)節(jié)。氣體電離：在真空腔體內(nèi)，通過(guò)射頻(RF)電源...

在芯片制造、傳感器開(kāi)發(fā)或微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)生產(chǎn)中，材料的微米甚至納米級(jí)加工是決定產(chǎn)品性能的關(guān)鍵。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)傳感器表面的微結(jié)構(gòu)需要準(zhǔn)確到微米級(jí)厚度，它通過(guò)物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，成為半導(dǎo)體和微納制造領(lǐng)域的核心技術(shù)工具。RI...

等離子表面處理儀是一種在材料表面改性領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用的設(shè)備，它利用等離子體這一特殊的物質(zhì)形態(tài)，對(duì)材料表面進(jìn)行準(zhǔn)確的處理，從而改善材料的表面性能，滿(mǎn)足不同行業(yè)對(duì)材料性能的多樣化需求。等離子體是一種由帶電粒子(如離子、電子)和中性粒子(如原子...

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...

紫外臭氧清洗機(jī)的工作原理基于紫外線(UV)與臭氧(O2)的協(xié)同作用。紫外線照射能夠激發(fā)空氣中的氧氣分子(O2)，使其分解為氧原子(O)，隨后這些氧原子與周?chē)难鯕夥肿咏Y(jié)合，生成臭氧。臭氧作為一種強(qiáng)氧化劑，能夠迅速與材料表面的有機(jī)污染物發(fā)生化...

紫外臭氧清洗機(jī)是一款用于無(wú)機(jī)基材表面有機(jī)污染物去除的表面清洗設(shè)備，能夠簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈表面。紫外臭氧清洗機(jī)的選購(gòu)注意要點(diǎn)：1.清洗面積：根據(jù)實(shí)際需要清洗的基片或物品的大小，選擇具有合適有效清洗面積的清洗機(jī)。2.清洗效果：關(guān)注清洗機(jī)...

低溫等離子有機(jī)質(zhì)去除儀被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域中，如化工業(yè)、造紙業(yè)、制藥業(yè)等，用于去除異味、惡臭及有機(jī)質(zhì)，其使用流程包括開(kāi)機(jī)前的準(zhǔn)備、開(kāi)機(jī)與預(yù)熱、運(yùn)行與監(jiān)控、停機(jī)與清理以及注意事項(xiàng)等多個(gè)環(huán)節(jié)，只有嚴(yán)格按照流程操作，才能確保設(shè)備的正常運(yùn)行。低溫等...

粉體在生產(chǎn)和加工過(guò)程中，往往會(huì)附著一些難以清洗的污垢和氧化物，這些污垢和氧化物會(huì)影響粉體的質(zhì)量和使用效果。粉體等離子清洗機(jī)能夠通過(guò)等離子體的化學(xué)反應(yīng)原理，將這些污垢和氧化物分解并清洗掉，從而提高粉體的質(zhì)量和使用效果。粉體等離子清洗機(jī)就是在常...